Le Corona Pattern Modifier (CoronaPatternMod) peut être utilisé pour couvrir un objet de base avec un motif 3D généré en répliquant un autre objet sur la surface de l’objet de base. Avant de poursuivre la lecture sur le Corona Pattern Modifier, vous pouvez télécharger une archive avec la géométrie d’exemple du motif ici. N’hésitez pas à expérimenter !
Vous consultez actuellement l’article Corona Pattern dans le Chaos Help Center, qui explique l’utilisation de la fonction et fournit des exemples utiles. Comment utiliser le Corona Pattern Modifier ? Notez que le Corona Pattern ne peut pas être converti en maillage éditable car il s’agit d’un effet rendu uniquement, et il n’est pas prévisualisable dans l’éditeur.
Application et premier aperçu
Attribuez le modificateur CoronaPatternMod à l’objet de base (l’objet que l’on souhaite recouvrir par le motif) : sélectionnez le nœud Pattern (le motif sera créé en répétant cet objet). Un crop-box et des axes UVW apparaissent autour du nœud Pattern. Il est utile de vérifier le XForm, la rotation et l’échelle du nœud Pattern pour s’assurer qu’il sera distribué sur l’objet de base comme prévu. Le motif résultant est étroitement lié au mapping UVW et aux coordonnées de texture de l’objet de base.
Relation du Corona Pattern avec le UVW Mapping. Créons une théière et appliquons-lui un matériau avec un dégradé radial dans la fente Base color pour une explication visuelle optimale sur la relation entre CoronaPatternMod et UVWMapping. Pour rendre les choses plus claires dans la fenêtre de prévisualisation, appliquons un UVW Xform et augmentons le tiling des textures pour la théière. Notez que ce sont les coordonnées UVW de l’objet qui sont modifiées, pas celles de la carte du gradient.
Ainsi chaque point représente un espace de texture pour la théière. Cela signifie que si le CoronaPatternMod est appliqué, un seul nœud Pattern sera déposé sur chacun des points. Appliquons alors le CoronaPatternMod à la théière et choisissons la sphère bleue comme nœud Pattern. Notez les crop box et axes UVW apparaissant autour de la sphère. Voici à quoi ressemble le rendu actuellement :
Remarque : le modificateur CoronaPatternMod s’applique uniquement au moment du rendu. Vous ne verrez pas son effet dans la fenêtre de prévisualisation. Vous pouvez modifier les paramètres de tiling dans les réglages du CoronaPatternMod :
Contrôles essentiels du motif
La hauteur du motif contrôle l’échelle locale sur l’axe Z pour le nœud Pattern. En la passant à 0.2, les sphères sur la théière deviennent 5 fois plus petites. Notez que même si vous scalez le nœud Pattern sur l’axe Z, rien ne se produit, car c’est l’XForm original du Pattern qui est pris en compte. L’option “Fit in world space” peut être utilisée dans ce cas pour réinitialiser virtuellement l’XForm du nœud Pattern pour le CoronaPatternMod. Par défaut, “Fit in object space” est utilisé lorsque le CoronaPatternMod est appliqué. Observez comment les sphères deviennent à nouveau plus “hauteur” et comment la taille du Crop Box en Z s’ajuste pour s’adapter à la sphère redimensionnée. En général, le paramètre Pattern height est le moyen le plus pratique de contrôler l’échelle Z du nœud Pattern.
Pattern Offset. Le Pattern offset déplace le motif par rapport à la surface de base, le long de sa normale. Pour comprendre visuellement, créons un plan et un tore, appliquons le tore comme nœud pattern sur le plan et modifions le tiling UV à 10. Nous pouvons aussi activer Render base object pour mieux voir l’effet d’offset : Render base object: Enabled. Avec la valeur par défaut de 1.0 pour Pattern offset, le tore est placé sur le plan avec le bord inférieur de son crop box aligné au plan. Une valeur de 0 placera le tore au milieu du plan, le Crop Box centré verticalement. Pattern offset: 0.0. Une valeur de -1.0 placera le tore sous le plan : Pattern offset: -1.0.
Matériaux et IDs. Si nous appliquons un matériau au nœud pattern, l’option Use pattern material peut être activée pour faire en sorte que la géométrie du motif utilise le matériau du tore. L’option Restrict on material ID permet de créer le motif uniquement sur les polygones possédant l’ID sélectionné. Pour l’ID et les modes UVW, commençons par modifier les IDs du tore pour le découper en 4 couleurs, puis appliquons un CoronaMultiMap avec 4 slots différents au matériau Base color du tore avec l’option Face Material ID activée. Avec Use pattern material et Id mode défini sur Pattern object, les IDs proviennent du Pattern node et l’on obtient un motif découpé en 4 parties. ID Mode: Pattern object. Si l’on modifie les IDs du plan de base et que l’on règle l’ID mode sur Base object, les couleurs du motif dépendent de l’ID de la face du plan de base. ID Mode: Base object. Notez que le plan de base n’a pas forcément de matériau appliqué, mais les IDs et les couleurs proviennent de celui-ci.
Si l’on désactive le CoronaPatternMod et applique le même matériau au plan de base, voici le rendu correspondant. En réactivant le modificateur, le motif est visible et les deux objets (nœud pattern et objet de base) partagent le même matériau. ID mode: Base object. En changeant le mode ID sur Pattern object, le plan reste tel quel, mais le motif est comme le nœud Pattern - le tore.
Le même principe est utilisé pour le mode UVW lorsqu’il existe des maps. Randomisation: offset et rotation aléatoires peuvent être activés et même “step” pour obtenir des variations. Par exemple, Random offset U de 0.0 à 1.0, Step: 0.0, ou sans rotation aléatoire, ou avec Random rotation de 0 à 360°, Step: 90°. Cela permet une distribution colorée aléatoire des motifs.
Éléments avancés et mélange des UVW mapping
Mixage des UVW mapping du motif et de l’objet base (Corona 12 et versions plus récentes). Il est possible d’employer simultanément le mapping du motif et celui de l’objet base pour mélanger les textures appliquées à l’objet entier et les textures du motif. Par exemple, un pattern object est utilisé pour générer un motif de “stitch” qui donne un effet tricoté sur l’objet base. Les textures à petite échelle du motif et les textures à grande échelle de l’objet base peuvent être combinées via un Corona Mix map sur des map channels différents.
Pour illustrer, une texture de petit motif sur le motif et une texture large sur l’objet base peuvent être mélangées avec un Corona Mix map : map channel 2 pour le motif (pattern object mapping) et map channel 3 pour l’objet base (base object mapping). Une autre configuration montre la texture diffuse sur l’objet base et la texture de déformation (bump) sur le motif, en utilisant des canaux correspondants.
Astuce: vous pouvez utiliser Corona Mapping Randomizer pour ajouter de la variation dans les textures appliquées aux segments du motif, réduisant l’apparence “clonée”. Corona Pattern et Cosmos. Une grande variété d’objets Pattern prêts à l’emploi est disponible directement dans le Cosmos Browser. Pour utiliser l’un d’entre eux, ouvrez le Cosmos Browser depuis l’application hôte et naviguez vers 3D Models > Enmesh - Pattern. D’autres ressources et tutoriels couvrent le déplacement, le pattern et les différences d’utilisation. Si des trous ou des déchirures apparaissent dans le motif, cela peut être dû à des groupes d’assouplissement (smoothing groups) différents sur l’objet base. La solution consiste à s’assurer que l’objet base utilise un seul smoothing group.
Cas pratiques et ressources complémentaires
Un aperçu des tutoriels et des ressources montre comment mélanger les textures à l’aide de maps et comment interpréter les résultats du mapping. On peut consulter le fil de discussion « CoronaPattern playground » sur le forum pour plus d’astuces et de variations, ainsi que des ressources sur le Displacement, le Scatter et les différences d’utilisation du Pattern.
Realistic Console Material in 3ds Max | UVW Map Tutorial | Corona Renderer | @3dinteriorstudio
Exemples et résultats
Le motif peut être testé avec différentes géométries et configurations de vues. Les exemples démontrent comment l’échelle, l’offset et le mapping influencent la distribution du motif sur la surface, et comment les modes d’ID et de map channels permettent des résultats variés et dynamiques. Le rendu final dépend de la relation entre la géométrie du motif, sa position par rapport à la surface et les paramètres de mapping UVW.
Sélection des éléments et workflows recommandés
- Utiliser le Pattern height pour ajuster l’échelle Z du motif sans modifier l’échelle XForm initial du Pattern node.
- Prévoir le “Fit in world space” ou “Fit in object space” selon le contexte pour contrôler l’orientation et le positionnement du motif.
- Employer le Pattern offset pour contrôler l’alignement relatif au plan de base et tester différents scénarios d’offset et d’alignement vertical.
- Expérimenter avec les modes ID et UVW pour obtenir des résultats variés et colorés selon les textures et les objets.
- Utiliser Random offset et Random rotation pour injecter de la variabilité et éviter l’effet “clone”.
Pour résumer, le Corona Pattern Modifier offre une méthode puissante pour créer des motifs complexes et dynamiques en utilisant des objets comme motifs, tout en tirant parti du mapping UVW et des options d’ID, de canaux et de textures. La maîtrise des paramètres Pattern height, Pattern offset et des modes d’ID permet d’obtenir des résultats variés, allant d’effets simples à des arrangements riches et colorés sur les surfaces des objets.